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半導體分立器件RCA硅晶圓片濕法刻蝕清洗機

CGB,半導體分立器件RCA硅晶圓片濕法刻蝕清洗機

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  • 發(fā)布日期: 2008年05月07日
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半導體分立器件RCA硅晶圓片濕法刻蝕清洗機 本設備型號:CGB-XXXX—XX系列,品牌:華林嘉業(yè)—CGB適用于去除硅晶圓片工件表面的油污及其他有機物、除膠、去金屬離子等。設備由清洗槽部分、伺服系統(tǒng)及機械臂部分、層流凈化系統(tǒng)、電氣控制系統(tǒng)、機架及整機部分組成。清洗槽部分由有機溶劑槽、去離子水槽、酸槽或堿槽等組成。關(guān)件均采用進口原件,包括氣動閥,PFA管道,全氟循環(huán)系統(tǒng)等,保證工作介質(zhì)(酸、堿)的潔凈度,避免雜質(zhì)析出。 整體采用德國進口工程塑料焊接組合加工而成,結(jié)構(gòu)合理,外型美觀。工藝過程全自動,機械手在槽間的轉(zhuǎn)換由兩套伺服系統(tǒng)控制,可存儲多條工藝時序,方便使用。 人機界面為觸摸屏,方便直觀,操作簡便。.除裝片和取片需人工外,其余工藝動
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